Fel y gwyddom i gyd, dim ond un gwneuthurwr yn y byd sy'n gallu cynhyrchu lithograffeg EUV, sef yASML yr Iseldiroedd.
Y rheswm pam mai dim ond un gwneuthurwr sydd yn y byd yw bod ASML wedi clymu llawer o weithgynhyrchwyr allweddol gyda'i gilydd, megis Zeiss (Zeiss), cwmni opteg Almaeneg, Cymer (UDA), aTRUMPF (Yr Almaen).
Mae ASML wedi clymu'r gweithgynhyrchwyr hyn i'w gerbyd trwy fuddsoddi, caffael, cyfranddaliadau, sefydlu canolfannau ymchwil, ac yn y blaen, ac mae'n debyg mai'r gweithgynhyrchwyr hyn yw'r unig weithgynhyrchwyr yn y byd sy'n gallu cynhyrchu'r cynhyrchion hyn, felly yn y pen draw dim ond ASML yn y byd sy'n gallu cynhyrchu lithograffeg EUV.
Fodd bynnag, yn ddiweddar, rhedodd cadwyn gyflenwi allweddol o ASML, i Shenzhen, Tsieina i adeiladu ffatri, ymgartrefodd ei is-gwmni Shenzhen ym Mharc Arddangos Diwydiannol Baoan Sino-Almaeneg (Ewrop).
Y gwneuthurwr hwn yw Grŵp TRUMPF yr Almaen (TRUMPF), dyma lithograffeg EUV ASML, unig gyflenwr ffynhonnell laser y byd.
Cynhyrchion TRUMPF yn lithograffeg EUV, pa mor bwysig? Yn gyntaf, gwrandewch arnaf yn esbonio egwyddor lithograffeg EUV, byddwch yn deall.
Mae egwyddor lithograffeg EUV, i'w roi yn syml, yn canolbwyntio ar dair system fawr, system ffynhonnell golau uwchfioled EUV, y system drych gwrthrychol, a'r system bwrdd.
Y broses benodol yw defnyddio laser i gyffroi tonfedd 13.5nm o olau uwchfioled eithafol, sydd wedyn yn cael ei chywiro i ffurfio pelydryn o olau wedi'i reoli, sydd wedyn yn cael ei daflunio ar fwrdd mwgwd ffoto cyn ei daflunio trwy ddrych gwrthrychol ar fwrdd datguddio. ac yn olaf ysgythru i mewn i gylched ar wafer silicon gorchuddio â photoresist.
Sut y ceir un o systemau ffynhonnell golau UV EUV trwy beledu defnyn metel tun (Sn) â laser CO2 pŵer 30 kW, ei anweddu i mewn i blasma, ac yn olaf cael golau EUV ar donfedd 13.5 nm.
Mae'r laser 30 kW CO2 hwn yn cael ei gyflenwi gan TRUMPF, yr unig un yn y byd.
Peidiwch â diystyru'r laser CO2 hwn, mae ganddo 457,329 o rannau, mae hyd y cebl yn y system hyd at 7,322 metr, ac mae'r pwysau yn 17,090 kg, sef un o'r cydrannau craidd pwysicaf yn lithograffeg EUV.
Nawr rhedodd TRUMPF i Tsieina i adeiladu ffatri, mae'r bwriad yn glir, hynny yw, yn optimistaidd am y farchnad laser Tseiniaidd, a hyd yn oed yn fwy hirdymor barn, optimistaidd am y farchnad lithograffeg Tsieineaidd, efallai y bydd y dyfodol yn cydweithredu â Tsieina i adeiladu EUV lithograffeg .
Mewn gwirionedd, mae mwy nag un gadwyn gyflenwi ASML eisoes yn rhedeg i Tsieina i adeiladu ffatri, mae yna KMWE a gweithgynhyrchwyr eraill, hefyd i Tsieina i adeiladu ffatri.
Yn ôl y duedd bresennol, gallwn ddisgwyl yn optimistaidd efallai na fydd yn hir cyn y bydd technoleg lithograffeg Tsieina yn gam mawr ymlaen, a gall hyd yn oed cyfaint allbwn lithograffeg EUV, hefyd edrych ymlaen at, yn eich barn chi?
