Mae peiriannau lithograffeg EUV yn offer hanfodol mewn gweithgynhyrchu sglodion modern, ac un o'u his -systemau craidd yw'r laser - plasma (LPP) ffynhonnell golau EUV. Yn flaenorol, roedd y farchnad fyd -eang ar gyfer y ffynhonnell hon yn dibynnu'n bennaf ar laserau CO2 a weithgynhyrchwyd gan CYMER, cwmni yn yr UD. Mae'r laserau hyn yn cyffroi plasmas SN gydag effeithlonrwydd trosi ynni (CE) sy'n fwy na 5%, ac yn gweithredu fel y ffynhonnell golau gyrru ar gyfer peiriannau lithograffeg ASML. Ar hyn o bryd ASML yw'r unig wneuthurwr peiriannau lithograffeg yn y byd sy'n gallu defnyddio ffynonellau golau EUV, gan gynnal cyfran o'r farchnad 100% yn y maes hwn. Fodd bynnag, oherwydd rheolaethau allforio a osodwyd gan Adran Fasnach yr UD ar Tsieina, mae ASML a chwmnïau sglodion eraill wedi'u gwahardd rhag gwerthu modelau lithograffeg EUV Edge - i China ers 2019, gan rwystro datblygiad diwydiant sglodion Tsieina yn ddifrifol.
Ond roedd ymchwilwyr Tsieineaidd yn ddiamheuol. Ar ôl blynyddoedd o waith caled, arloesodd tîm Lin Nan ddull newydd, gan ddefnyddio laserau pylsedig solid - yn lle laserau CO2 fel y ffynhonnell golau gyrru. Ar hyn o bryd, mae laser gwladwriaethol 1µm solid - y tîm wedi cyflawni effeithlonrwydd trosi uchaf o 3.42%. Er nad yw'n fwy na 4% eto, mae'n rhagori ar berfformiad timau ymchwil yn yr Iseldiroedd a'r Swistir ac mae'n hanner effeithlonrwydd trosi 5.5% ffynonellau golau masnachol. Mae ymchwilwyr yn amcangyfrif y gallai effeithlonrwydd trosi uchaf damcaniaethol y platfform arbrofol ffynhonnell golau agosáu at 6%, gyda'r potensial i wella ymhellach yn y dyfodol. Cyhoeddwyd y canlyniadau ymchwil perthnasol yn ddiweddar ar glawr rhifyn 2025 o gylchgrawn China Laser, rhifyn 6 (diwedd mis Mawrth).
Mae Lin Nan, awdur cyfatebol y papur hwn, yn darparu cefnogaeth gref i'r cyflawniad hwn gyda'i gefndir a'i arbenigedd ymchwil. Ar hyn o bryd mae'n ymchwilydd ac yn oruchwyliwr doethuriaeth yn Sefydliad Opteg a Mecaneg Precision Shanghai, Academi Gwyddorau Tsieineaidd, talent lefel - cenedlaethol tramor, dirprwy gyfarwyddwr Labordy Allweddol Cenedlaethol Cangen Peiriant Ultra Ultra - y Prif Wyddoniaeth Dechnegol, Laser Intense a Technoleg, Laser Intense, Laser Of, Laser Integreiddio, Laser Of, Laser Integreiddiad a Thechnoleg, Laser Integreiddiad, Cymdeithas Offerynnau a'r Micro - Pwyllgor Nano Cymdeithas Peirianneg Optegol Tsieineaidd. Yn flaenorol, bu Lin Nan yn gweithio fel gwyddonydd ymchwil ac yna fel pennaeth technoleg ffynhonnell golau yn yr adran Ymchwil a Datblygu yn ASML yn yr Iseldiroedd. Mae ganddo dros ddegawd o brofiad mewn ymchwil, datblygu prosiectau peirianneg, a rheoli offer gweithgynhyrchu a mesur cylched integredig mawr -. Mae wedi gwneud cais am ac wedi cael dros 110 o batentau rhyngwladol yn yr Unol Daleithiau, Japan, De Korea, a gwledydd eraill, y mae llawer ohonynt wedi'u masnacheiddio a'u hymgorffori yn y peiriannau lithograffeg diweddaraf ac offer metroleg. Graddiodd o Brifysgol Lund yn Sweden, lle bu’n astudio o dan 2023 enillydd Gwobr Nobel yn Ffiseg Anne L’Uillier. Derbyniodd hefyd radd doethur ar y cyd gan Brifysgol Saclay Paris - ac Asiantaeth Ynni Atomig Ffrainc, a chynhaliodd ymchwil ôl -ddoethurol yn ETH Zurich yn y Swistir.
Ym mis Chwefror eleni, cyhoeddodd tîm Lin Nan bapur clawr yn nhrydydd rhifyn y cyfnodolyn "Progress in Lasers and Optoelectroneg", gan gynnig cynllun cynhyrchu golau uwchfioled eithafol band eang yn seiliedig ar plasma tun laser wedi'i gyfyngu'n ofodol, y gellir ei ddefnyddio ar gyfer mesuriad uwch -semmowt trwy fesur semtyfiad uchel. Cyflawnodd y cynllun effeithlonrwydd trosi o hyd at 52.5%, sef yr effeithlonrwydd trosi uchaf a adroddwyd yn y band uwchfioled eithafol hyd yma. O'i gymharu â'r ffynhonnell golau harmonig - uchel ar hyn o bryd, mae'r effeithlonrwydd trosi yn cael ei wella tua 6 gorchymyn maint, gan ddarparu mwy o gefnogaeth dechnegol newydd ar gyfer y lefel mesur lithograffeg domestig.
Mae'r platfform Solid - State Laser - a ddatblygwyd gan dîm Lin Nan yn wahanol i'r dechnoleg CO2 - a ddefnyddir yn offer lithograffeg diwydiannol ASML. Mae'r papur yn nodi, "Hyd yn oed gydag effeithlonrwydd trosi o ddim ond 3%, solid - state laser - Gall ffynonellau LPP - EUV ddarparu pŵer lefel watt -, gan eu gwneud yn addas ar gyfer gwireddu EUV a mwgwd mwgwd." Mewn cyferbyniad, mae laserau CO2 masnachol, er eu bod yn uchel - pŵer, yn swmpus, mae ganddynt electro isel - effeithlonrwydd trosi optegol (llai na 5%), ac mae costau gweithredu a phwer uchel yn arwain at gostau gweithredu uchel. Mae laserau pylsedig Solid -, ar y llaw arall, wedi gwneud cynnydd cyflym dros y degawd diwethaf, gan gyrraedd allbynnau pŵer ar lefel cilowat ar hyn o bryd a disgwylir iddynt gyrraedd mwy na 10 gwaith hynny yn y dyfodol.
Er bod ymchwil ar solid - state laser {- Mae ffynonellau EUV plasma sy'n cael ei yrru yn dal i fod yn y camau arbrofol cynnar ac nid yw eto wedi cyrraedd masnacheiddio llawn, mae canlyniadau ymchwil tîm Lin Nan wedi darparu cefnogaeth dechnegol bwysig ar gyfer datblygiad domestig solid - STATE {}}} {State laser {}, Pell - gan gyrraedd arwyddocâd i ymchwil a datblygu annibynnol Tsieina o lithograffeg EUV a'i gydrannau a'i dechnolegau allweddol.
Yn ystod galwad cynhadledd buddsoddwyr y mis hwn, nododd ASML CFO Roger Dassen ei fod yn ymwybodol o gynnydd Tsieina mewn technoleg amnewid lithograffeg ac yn cydnabod bod gan China y potensial i gynhyrchu ffynonellau golau EUV. Fodd bynnag, roedd yn dal i gredu y byddai'n cymryd blynyddoedd lawer i China gynhyrchu offer lithograffeg EUV datblygedig. Fodd bynnag, mae ymdrechion di -baid a datblygiadau parhaus ymchwilwyr Tsieineaidd yn torri'r disgwyliad hwn yn raddol. Yn 2024, cyflawnodd ASML werthiannau net o € 28.263 biliwn, blwyddyn - ar gynnydd blwyddyn - o 2.55%, gan osod cofnod newydd. Daeth China yn farchnad fwyaf, gyda gwerthiannau o € 10.195 biliwn, gan gyfrif am 36.1% o'i refeniw byd -eang. Hyd yn oed yng nghyd -destun rheolyddion a thariffau allforio lled -ddargludyddion cyfredol, mae ASML yn disgwyl i werthiannau yn Tsieina gyfrif am ychydig dros 25% o gyfanswm ei refeniw yn 2025. Mae cynnydd diwydiant sglodion Tsieina yn ddi -rwystr.
